۱ نتیجه برای لایه نازک Fto؛ آلاینده؛ مقاومت ویژه؛ عبور؛ شاخص شایستگی؛ گرما کافت افشانهای.
دکتر حسن زارع اصل، دکتر سیدمحمد روضاتی،
دوره ۳۳، شماره ۱ - ( ۱-۱۴۰۴ )
چکیده
لایههای نازک اکسید قلع آلاییده با فلوئور (FTO) با روش گرماکافت افشانهای روی بستر لام شیشهای رشد داده شدند. مقدار آلاینده فلوئور (نسبت اتمی [F]/[Sn]) در محلول پیشماده به ترتیب برابر با ۰، ۲۰، ۳۰ و ۴۰ درصد اتمی در نظر گرفته شد. با ورود F به ساختار SnO۲، بافت لایههای نازک دچار تغییراتی شد. این تغییرات عامل اصلی بهبود تحرک حاملهای بار تشخیص داده شد. بهبود تحرک حاملهای بار در کنار افزایش غلظت آنها در اثر جایگزینی O۲- با F-، باعث افزایش قابل توجه رسانندگی در لایههای آلاییده شد. آلاینده F همچنین باعث افزایش شفافیت و جابهجایی لبه جذب لایههای نازک FTO به سمت طول موجهای پایینتر گردید. سرانجام لایه نازک FTO با آلاینده ۳۰ درصد اتمی مقاومت ویژه Ω.cm ۱۰-۴×۰۹/۸، مقاومت سطحی Ω/sq ۱۶ و متوسط عبور %۴۷/۸۷ را فراهم آورد که در نتیجه آن شاخص شایستگی ۱-Ω ۱۰-۲×۶۵/۱ برای آن محاسبه گردید.