دوره 29، شماره 2 - ( 4-1400 )
جلد 29 شماره 2 صفحات 504-495 |
برگشت به فهرست نسخه ها
امین کاظمی1 
، محمدرضا فدوی اسلام* 1، غلامرضا یزدی2
، محمدرضا فدوی اسلام* 1، غلامرضا یزدی2
1- دانشکده فیزیک، دانشگاه دامغان، دامغان، ایران
2- گروه نیمرسانا، دانشکده فیزیک، دانشگاه لینشوپینگ، سوئد
2- گروه نیمرسانا، دانشکده فیزیک، دانشگاه لینشوپینگ، سوئد
چکیده: (1023 مشاهده)
در این پژوهش، اثر آلایش نقاط کوانتومی گرافن بر طیفهای گسیلی آنها بررسی شده است. نخست گرافن بر زیرلایه کاربید سیلیکون به روش روآرایی لایه نشانی شد. سپس نقاط کوانتومی گرافن آلایش شده بر زیر لایه گرافن به روش قطره چکانی توزیع شدند. ساختار نمونهها توسط پراش سنج پرتو ایکس (XRD)، میکروسکوپ الکترونی روبشی (SEM)، میکروسکوپ الکترونی عبوری (TEM)، میکروسکوپ نیروی اتمی (AFM) و طیف سنج رامان مشخصه یابی شد. طیفهای گسیلی از نقاط کوانتومی گرافن در اثر تابش نور فرابنفش بررسی شدند. پراش پرتو ایکس از گرافن رشد داده شده بر زیر لایه کاربید سیلیکون ساختار گرافن و کاربید سیلیکون را تایید کرد. تصویر میکروسکوپ نیروی اتمی یکنواختی سطح گرافن رشد داده شده بر کاربید سیلیکون را نشان داد. نگاشت بازتابندگی بهدست آمده از طیفسنج رامان وجود تک لایهها و دولایههای گرافن را تایید کرد. تصاویر میکروسکوپهای الکترونی روبشی و نیروی اتمی نیز توزیع یکنواخت نقاط کوانتومی گرافن بر زیر لایه را نشان دادند. دیده شد که با افزایش آلایش نقاط کوانتومی توسط بور از 75/0% به 5/1% و برای پتاسیم از 2% به 4%، شدت طیف گسیلی آنها افزایش مییابد. همچنین با افزایش مقدار آلاینده نیتروژن و کلر از 2% به 4%، شدت طیف گسیلی کاهش یافت. افزون بر آن، شدت قلههای طیف گسیلی نقاط کوانتومی آلایش شده با پتاسیم بیش از بور و شدت قلههای نقاط کوانتومی گرافن آلایش شده با نیتروژن نسبت به کلر بیشتر است. بهطور کلی، بیشترین و کمترین افزایش شدت طیف گسیلی در اثر آلایش به ترتیب با پتاسیم و کلر است.
واژه‌های کلیدی: گرافن، نقاط کوانتومی گرافن، طیف گسیلی.
| بازنشر اطلاعات | |
 |
این مقاله تحت شرایط Creative Commons Attribution-NonCommercial 4.0 International License قابل بازنشر است. |